10月17日～19日，“全国半导体设备与材料标准化技术委员会微光刻分技术委员会2012年技术研讨会”在溧阳天目湖涵田度假村酒店隆重召开。
会议由常州瑞择微电子科技有限公司承办，共邀请到全国微光刻分技术委员会的60位委员，美国Gobal Foundries公司、SEMATECH联盟、日本JEOL公司、德国VISTEC公司、GenISys集团、中芯国际集成电路制造有限公司等国内外企业的多名专家参会。此次会议采用了国外专家演讲结合国内主题研讨的形式，就目前微光刻及其相关领域进行了广泛而深入的技术交流，确认了2011年《光致抗蚀剂灵敏度测量所涉及的参数规范》等七项国家标准正式报批稿，审议通过了《TFT平板显示器用掩模版规范》标准草案，共享了国内外同行业的最新研究成果。
市科技局李允建副局长到会并致欢迎辞。作为承办方，常州瑞择微电子科技有限公司总经理徐飞在研讨会上作了精彩发言，并向专家们介绍了公司项目研究成果以及今后的研发方向等。
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